博星优配南大光电申请ArF浸没式光刻胶树脂专利，得到边缘粗糙度更低的光刻图形

国家知识产权局信息显示博星优配，宁波南大光电材料有限公司申请一项名为“一种ArF浸没式光刻胶树脂及其制备方法”的专利，公开号CN121226606A，申请日期为2025年10月。

专利摘要显示，本发明适用于半导体制造材料技术领域，本发明提供了一种ArF浸没式光刻胶树脂及其制备方法，其具有显影后溶解损失较小，形貌优异的特点。该树脂由如下单体制成，按重量百分比计，各单体的比例为：10％～40％内酯单体、20％～60％酸保护单体、0.01％～20％溶解抑制单体。本发明引入适量地溶解抑制单体，此单体具有较低表面能，能够阻碍显影液进入未曝光区域，降低了树脂在显影过程中的溶胀和溶解性能，减少光刻胶显影后的非曝光区溶解，改善光刻胶显影后的形貌，从而得到边缘粗糙度更低的光刻图形。使用本发明的ArF浸没式光刻胶树脂制备的光刻胶具优异的显影膜厚损失和图形形貌，提升了集成电路制造过程中的产品良率。

天眼查资料显示，宁波南大光电材料有限公司，成立于2018年，位于宁波市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本36733.19万人民币。通过天眼查大数据分析，宁波南大光电材料有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目33次，专利信息147条博星优配，此外企业还拥有行政许可43个。

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作者：情报员

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